搪玻璃設備的靜電點蝕分析
搪玻璃設備主要用于工業(yè)領域，使用為廣泛的就是反應釜和反應罐類設備，在反應罐等搪玻璃設備工作之后進行清理時經常會發(fā)現(xiàn)設備內壁有多微小的凹點，這些大大小小的凹點是什么原因造成的？是物料在反應過程中對玻璃釉質層產生了腐蝕嗎？
如果是物料具有腐蝕性，又或者在反應過程中有對玻璃釉質腐蝕作用的物質產生只會造成面積性腐蝕，而并非是大小不一的凹點。所以物料化學性造成的腐蝕基本可以排除。那究竟是什么原因？
經過查閱資料發(fā)現(xiàn)，在許多搪玻璃設備中會發(fā)生一種名為靜電穿刺的效應，會導致釉質出現(xiàn)一個個小凹坑。當設備內部的反應物屬于帶有懸浮物的液體時，懸浮物會與搪玻璃設備玻璃釉質層內壁發(fā)生劇烈摩擦，同時物料自身也在發(fā)生摩擦，我們知道摩擦可以帶來大量電荷，當這些電荷隨著反應的進行越來越多且不斷聚集，終于形成了相對高壓靜電荷，這種靜電荷對搪玻璃層產生強烈的穿刺作用，也就是點蝕作用。
這種靜電穿刺造成的點蝕對設備的損壞會隨著時間的積累逐步加深，如果不及時采取有效地措施，那么搪玻璃設備快就會因高度點蝕而報廢。
靜電點蝕的原因在于大量靜電荷的聚集，而靜電荷則是由劇烈摩擦所產生的，所以想要減輕這種點蝕現(xiàn)象簡單而又有效地方法就是降低搪玻璃設備攪拌器的攪拌速度，減小摩擦，電荷自然減少，而少量的電荷對搪玻璃層的損害是有限的。
